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单片湿法设备-金属剥离-Metal lift off
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单片湿法设备-金属剥离-Metal lift off
所属分类:
单片湿法设备
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单片湿法设备-金属剥离-Metal lift off
设备功能及信息概述:
外形尺寸 |
长 x 宽x高(单位mm)=2470mmx2000mm×2130mm(分体进场,不同配置长度会变化) |
设备重量 |
3600Kg |
设备特点 |
特别针对强硬很难去除的光阻而设计,可长时、高温、循环、浸泡的槽式结构节省药液使用量提高光阻去除率,高压冲洗腔二次高效去除光阻(Max3000psi), 筛网过滤大片的光阻搭配适合需求的过滤器的设计提高工艺能力,也避免过滤器的大量消耗,药液回收重复利用 |
设备结构 |
LP+ Buffer station+ Soaking tank + Hijet Chamber+ Final Clean+ Regulator & Main Power Box (Buffer Tank Area) |
清洗/蚀刻形式 |
干进干出 |
干燥、控制形式 |
Spin +N2 Dryer、PC +PLC |
安全性能 |
防漏、液位检测、wafer检测、防呆设计等配备齐全 |
可靠性能 |
1. Particle remove rate ≥95%。2.No PR residue with 100xOM inspection。3.环境FFU过滤。4.循环过滤系统。5.全自动/手动扫码系统 |
性能参数 |
电压:3相4线,AC208,50Hz;功率:约18Kw(视设备配置定);CDA压力:5-7Kg/cm² |
CDA流量:200-600LPM;PN2压力:5-7Kg/cm²;PN2流量:50-400LPM;排风量≥200Pa |
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